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保護電解池側(cè)壁的系統(tǒng)和方法

編輯:冶金材料設(shè)備網(wǎng)
發(fā)布時間:2014-11-19

【申請?zhí)枴?/span>

CN201410093321.0

【申請日】

2014-03-13

【公開號】

CN104047025A

【公開日】

2014-09-17

【申請人】

美鋁公司

【地址】

美國賓夕法尼亞州

【共同申請人】

【發(fā)明人】

劉興華;D·A·韋勞奇;F·E·菲爾普斯;J·M·戴尼斯;J·克爾克霍夫;R·A·迪米利亞

【國際申請】

【國際公布】

【進入國家日期】

【專利代理機構(gòu)】

中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務(wù)所 11038

【代理人】

林振波

【分案原申請?zhí)枴?/span>

【國省代碼】

US

【摘要】

提供了一種系統(tǒng),包括:被設(shè)置用于保留熔融電解液的電解池,所述電解液包括至少一種電解液成分,所述電解池包括底部和基本上由所述至少一種電解液成分構(gòu)成的側(cè)壁;以及進料系統(tǒng),被設(shè)置用于向熔融電解液提供包括所述至少一種電解液成分的進料,以使所述至少一種電解液成分處于約2%的飽和度以內(nèi),其中,側(cè)壁通過進料而在熔融電解液內(nèi)保持穩(wěn)定。

【主權(quán)項】

一種系統(tǒng),包括:被設(shè)置用于保留熔融電解液的電解池,所述電解液包括至少一種電解液成分,所述電解池包括:底部,和基本上由所述至少一種電解液成分構(gòu)成的側(cè)壁;以及進料系統(tǒng),被設(shè)置用于向熔融電解液提供包括所述至少一種電解液成分的進料,以使所述至少一種電解液成分處于約2%的飽和度以內(nèi),其中,側(cè)壁通過所述進料而在熔融電解液內(nèi)保持穩(wěn)定。

【頁數(shù)】

26

【主分類號】

C25C3/00

【專利分類號】

C25C3/00;C25C7/00;C25C3/06;C25C3/08

法律狀態(tài)檢索

申請(專利)號

201410093321.0

授權(quán)公告號

法律狀態(tài)公告日

2014.10.22

法律狀態(tài)類型

實質(zhì)審查的生效

實質(zhì)審查的生效
IPC(
主分類):C25C 3/00
申請日:20140313

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